光触媒反応装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-052592
公開番号（公開出願番号）：特開平11-244873
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】促進酸化処理に用いる二酸化チタン膜の表面積を拡大してもガス通過上の障害物とはならず、オゾンによる気液混合作用を高めて効率よく光触媒反応を生起させることができる光触媒反応装置を提供することを目的とする。【解決手段】光触媒反応器12内にランプ保護管21を介在して光源を挿入配置するとともに、該光触媒反応器12内に、二酸化チタンを担持したサドル型の形状を有する二酸化チタンの担体22を充填し、被処理水30にオゾンガスの放散と光源から発する光を照射することにより、担体22に担持された二酸化チタン表面の近傍部位に拡散してきた溶存オゾンと光触媒反応で生じた活性酸素種との相互作用により溶存オゾンを分解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルにより被処理水30中の有機物の酸化除去を行うことを特徴とする光触媒反応装置を基本構成とする。

請求項（抜粋）：

光触媒反応器内にランプ保護管を介在して光源を挿入配置するとともに、該光触媒反応器内に、広い表面積を有してガスの流通を妨げない光触媒担体を充填し、該担体の近傍部位に拡散してきた溶存オゾンと光触媒反応で生じた活性酸素種との相互作用により溶存オゾンを分解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルにより被処理水中の有機物の酸化除去を行うことを特徴とする光触媒反応装置。

IPC (5件)：

C02F 1/72 101 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , C02F 1/32 , C02F 1/78

FI (6件)：

C02F 1/72 101 , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , B01J 35/02 A , C02F 1/32 , C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (4件)

流体の光化学反応処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-348505 出願人：株式会社日本フォトサイエンス
水の浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-204402 出願人：石原産業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁
廃水浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-071640 出願人：スズキ株式会社

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