特許

J-GLOBAL ID：200903039050471682

投影露光装置

発明者： 三浦 聖也
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-208681
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022609
出願日： 2000年07月10日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】【課題】投影光学系の波面収差を、該投影光学系を投影露光装置に搭載した状態で、簡易かつ高精度に測定することができる投影露光装置を実現すること。【解決手段】投影光学系の結像位置近傍に被検査パターンとして投影光学系の解像限界のパターンより十分大きいパターンを配置し、該パターンの結像光束のうち、投影光学系の開口内の十分小さい領域を通過した光束の結像における像シフト量を、複数個の十分小さい領域で計測して、前記投影光学系の波面収差量を算出することを特徴とする投影露光装置。

請求項（抜粋）：

レチクルやフォトマスク上の回路パターンを投影光学系を介して基板上に投影露光する投影露光装置において、前記投影光学系の物体面または結像面にパターンを配置し、前記投影光学系を介して前記パターンの像を形成させる際、前記投影光学系の開口内に部分領域を形成し,かつ該部分領域位置を可変とする手段を有し,該部分領域を通過した光束の結像によって生じる像シフト量を、前記開口内の複数位置に関して計測して、前記投影光学系の波面収差を算出することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

G01M 11/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  G01B 11/24

FI (4件)：

G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  G01B 11/24 A

Fターム (21件)：

2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065AA45 ,  2F065BB27 ,  2F065CC21 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42 ,  2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10