特許
J-GLOBAL ID：200903039077669280
ポリアセチレンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-013516
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204124
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：
【要約】【課題】 1軸に異方性を持ちかつ非常に長い共役二重結合を持つポリアセチレンを形成することができなかった。【解決手段】 末端にSH基を有し、アセチレン基7を有する直鎖状炭化水素分子1の有機分子を溶解させた化学吸着液3中で、MBEやMOCVDの法を用いて形成したIII-V族化合物ヘテロエピタキシャル成長層を持った基板4を劈開し、その劈開面に単分子膜5を形成してから、紫外線を照射して重合反応を行い、極めて高い配向性を有するポリアセチレンを形成する。
請求項（抜粋）：
末端にチオール基と主鎖の任意の位置にアセチレン基またはジアセチレン基とを有する直鎖状炭化水素分子が含まれる溶液と、表面の組成が異なる領域を有する化合物半導体基板とを接触させ、表面の組成が異なる領域に応じて前記直鎖状炭化水素分子の単分子膜を前記化合物半導体基板の表面上に形成する工程と、前記単分子膜のアセチレン基またはジアセチレン基を重合する工程と、を含むことを特徴とするポリアセチレンの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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