特許

J-GLOBAL ID：200903039103582546

球体研磨方法および球体研磨装置

発明者： 鈴木 富太
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014393
公開番号（公開出願番号）：特開2000-210862
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 研磨作業全体にかかる時間を短縮できるとともに、セラミックス球の研磨に適した球体研磨方法および球体研磨装置を提供する。【解決手段】 球体研磨装置10は、研磨面を対向させて配設した2枚の盤体11,12間に球体Aを介在させ、盤体11,12間にラップ液を供給しながら盤体11,12を相対軸回転させて球体Aを研磨し、研磨効果が異なる第1ラップ液および第2ラップ液を選択的に用いることにより、複数工程の研磨加工を1台の球体研磨装置で行う。

請求項（抜粋）：

同軸配置された一対の円盤における互いに対向する研磨面間に球体を挟持するとともに、前記各円盤のうちの一方を他方に対して相対的に軸回転させることにより前記球体を研磨する球体研磨方法であって、所定の研磨効果を有する第1ラップ液を前記各研磨面間に供給する第1研磨工程を所定時間行った後、前記第1ラップ液に比較して前記研磨効果が低い第2ラップ液を前記各研磨面間に供給する第2研磨工程を行うことを特徴とする球体研磨方法および前記第1ラップ液と前記第2ラップ液とを選択的に前記各研磨面間に供給可能であることを特徴とする球体研磨装置。

IPC (2件)：

B24B 37/02 ,  B24B 11/02

FI (2件)：

B24B 37/02 B ,  B24B 11/02

Fターム (27件)：

3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AA14 ,  3C049AA16 ,  3C049AB03 ,  3C049AB04 ,  3C049AB08 ,  3C049AC01 ,  3C049AC04 ,  3C049BA02 ,  3C049CA01 ,  3C049CA02 ,  3C049CB05 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA14 ,  3C058AA16 ,  3C058AB03 ,  3C058AB04 ,  3C058AB08 ,  3C058AC01 ,  3C058AC04 ,  3C058BA02 ,  3C058CA01 ,  3C058CA02 ,  3C058CB05 ,  3C058DA02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• セラミックスの表面加工方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-074839   出願人：本田技研工業株式会社
• セラミックスの真球研磨装置と真球研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-209111   出願人：宮城県