特許
J-GLOBAL ID：200903039103996332
走査光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-098476
公開番号（公開出願番号）：特開平5-208523
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 レーザービームプリンタ等に使われている走査光学系において、走査光学系の走査位置誤差や感光体の回転変動誤差等による光ビームの照射位置変動が生ずるため、情報記録の画質劣化の原因となっていた。このビーム照射位置変動を抑制することを目的とする。【構成】 感光体上に設けた光ビームの照射位置を参照するマークと、適正照射位置との照射位置誤差を検出する手段と、ビームの照射位置を制御する手段とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光ビームを発生する光ビーム発生手段と、この光ビーム発生手段から発生した光ビームを感光体の感光部面上に1方向に走査する手段と、この走査方向とほぼ直行方向に前記感光体を移動する手段とを備えた走査光学装置において、前記感光体の移動速度に同期して移動する支持体と、この支持体面と異なる反射特性又は透過特性を有するマークを前記支持体面上に複数配したマーク部と、このマーク部面上の光量を測定し電気信号に変換する光電変換手段と、このマーク部の電気信号から光ビームの位置ズレを誤差信号として取り出す手段と、この誤差信号に基づいて前記光ビームの走査位置を制御する手段とを備えたことを特徴とする走査光学装置。
IPC (5件)：
B41J 2/44
, G02B 26/10
, G03G 15/00 301
, H04N 1/04 104
, G03G 15/04 116
