特許

J-GLOBAL ID：200903039110781066

ガス調理装置

発明者： 小寺 洋 ,  松本 隆 ,  内田 譲 ,  榎本 有 ,  前田 和茂 ,  毛笠 明志
出願人/特許権者： 株式会社ハーマン ,  大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 石田 長七 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-150670
公開番号（公開出願番号）：特開平7-012343
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】【目的】 調理中における被調理物の酸化を防止して味良く調理できる。【構成】 調理中における調理庫1内の酸素濃度を8%以下に設定する。低酸素濃度とすることで調理中における被調理物の酸化を防止する。

請求項（抜粋）：

調理中における調理庫内の酸素濃度を8%以下に設定して成ることを特徴とするガス調理装置。