特許
J-GLOBAL ID:200903039112983227
水素分離膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内田 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-276418
公開番号(公開出願番号):特開平5-085702
出願日: 1991年09月30日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】 混合ガス中の水素を分離するための水素分離膜の製造方法に関する。【構成】 細孔を有する金属多孔体の表面に、PdまたはPdを含有する薄膜を形成させる方法において、めっきまたはイオンプレーティングなどの途中で封孔処理(金属などによりしごくか、ブラスト処理によって行う)を行う水素分離膜の製造方法。
請求項(抜粋):
細孔を有する金属多孔体の表面に、PdまたはPdを含有する薄膜を形成させる方法において、めっきまたはインプレーティングなどの途中で封孔処理を行うことを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (5件):
C01B 3/56
, B01D 71/02 500
, C23C 14/16
, C23C 14/48
, C23C 18/42
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