特許
J-GLOBAL ID：200903039121007877
反射防止膜材料
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069050
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253674
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【構成】 基板上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤で除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜材料において、炭化水素系の有機溶剤に可溶なフッ素系樹脂を主成分とすることを特徴とする反射防止膜材料。【効果】 本発明の反射防止材料は、入射光の損失無しにレジスト層表面での反射光を低減し、かつレジスト層での光多重干渉によるパターン寸法の変動量を低減する反射防止膜を形成する材料として有用である。
請求項（抜粋）：
基板上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤で除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜材料において、炭化水素系の有機溶剤に可溶なフッ素系樹脂を主成分とすることを特徴とする反射防止膜材料。
IPC (3件)：
G03F 7/11 503
, G03F 7/075
, H01L 21/027
