特許

J-GLOBAL ID：200903039129377240

有害ガスの浄化方法

発明者： 島田 孝 ,  奥村 敏雄 ,  畠山 俊哉
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-237366
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060054
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程などで使用され、排ガス中などに含まれてくるtert-ブチルアルシン、tert-ブチルホスフィンなどの有害なアルキル水素化合物を効率よく除去する。【構成】 アルキル水素化合物を含有するガスを酸化銅(II)と酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にコバルト(II)化合物を添着した浄化剤と接触させる。

請求項（抜粋）：

有害成分となるVb族およびVIb族元素のアルキル水素化合物の少なくとも1種を含むガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にコバルト(II)化合物を添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (6件)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01J 20/06 ,  B01J 23/84 ZAB ,  B01J 23/889

FI (3件)：

B01D 53/34 ZAB B ,  B01D 53/34 120 A ,  B01J 23/84 311 A