ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276330
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100403
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Rは酸分解性有機基を示し、下記一般式(2)で表される構造を少なくとも1種含む。)(式中R1、R2はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアリール基、アルコキシアリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアリール基、ヒドロキシアリールアルキル基等を表す。また、R1、R2は閉環して環構造をとってもよい。R3は炭素数1〜12の有機基を示す。mは0または1である)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Rは酸分解性有機基を示し、下記一般式(2)で表される構造を少なくとも1種含む。)【化2】(式中R1、R2はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアリール基、アルコキシアリールアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアリール基、ヒドロキシアリールアルキル基、ハロアルキル基、ハロアリール基、ハロアリールアルキル基、シリルアルキル基、シリルアリール基、シリルアリールアルキル基、シロキシアルキル基、シロキシアリール基、シロキシアリールアルキル基を表す。また、R1、R2は閉環して環構造をとってもよい。R3は炭素数1〜12の有機基を示す。mは0または1である)

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , G03F 7/20 504 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 541 S

Fターム (29件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF03 , 2H025BF08 , 2H025BF09 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 2H097CA12 , 2H097CA13 , 2H097CA15 , 2H097CA16 , 2H097FA03 , 5F056CC11 , 5F056DA01 , 5F056DA04 , 5F056DA13

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