特許

J-GLOBAL ID：200903039152550277

レーザ加工のモニタリング方法、装置、レーザ加工方法及び装置

発明者： 川人 洋介 ,  岡田 俊治
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-121122
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316280
出願日： 2001年04月19日
公開日（公表日）： 2002年10月29日
要約：

【要約】【課題】 レーザを高速ストロボとして用いて、画像計測した場合、時間分解能は非常に高くすることができるが、繰り返しを上げることができない。。【解決手段】 パルスレーザ5により異なる色素を励起し、異なる波長レーザパルスを発生させ、それぞれの波長レーザパルスに所定の遅延を与え、この遅延を与えたそれぞれの波長レーザを対象物4に照射し、この照射したそれぞれの波長レーザの反射光を受光し、このそれぞれの反射光から画像計測する。

請求項（抜粋）：

パルスレーザにより異なる色素を励起し、異なる波長レーザパルスを発生させる工程と、それぞれの波長レーザパルスに所定の遅延を与える工程と、この遅延を与えたそれぞれの波長レーザを対象物に照射する工程と、この照射したそれぞれの波長レーザの反射光を受光する工程と、このそれぞれの反射光から画像計測したことを特徴とするレーザ加工のモニタリング方法。

IPC (5件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  G01J 3/18 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/213

FI (6件)：

B23K 26/00 P ,  B23K 26/02 C ,  G01J 3/18 ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/00 F ,  H01S 3/20 B

Fターム (21件)：

2G020BA20 ,  2G020CB23 ,  2G020CB42 ,  2G020CB43 ,  2G020CC02 ,  2G020CC26 ,  2G020CC31 ,  2G020CC47 ,  2G020CD12 ,  2G020CD24 ,  4E068CA17 ,  4E068CB09 ,  4E068CC02 ,  5F072AC02 ,  5F072KK01 ,  5F072KK07 ,  5F072KK15 ,  5F072KK30 ,  5F072PP10 ,  5F072QQ02 ,  5F072YY06