パターニング装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-211733
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206006
出願日： 1992年08月07日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】従来のパターニング方法よりもプロセス工程を大幅に簡略化した結像対象物パターニング方法を得る。【構成】結像対象物46をパターニングするための装置が与えられている。本装置は光線26を放射する光源24を含んでいる。光線26は集光レンズ28を通って光線30に集光される。この光線は次に、空間的光変調器32に当たり、空間的光変調器32は光42を反射させるようにコンピュータ40によって制御されている。光は結像レンズ44を通過して拡大されて結像対象物46へ入射する。結像対象物46はこのように、コンピュータ40によって変調器32を変化させることによってパターンが与えられる。

請求項（抜粋）：

感光材料を塗布したプリント回路基板をパターニングするためのシステムであって:a.光源、b.前記光源からの光エネルギーを予め定められたパターン状に反射させるための空間的光変調器、c.前記予め定められたパターンに対応する光線がそれを通過するように設置された結像レンズ、d.前記プリント回路基板をモザイクパターン状に結像レンズを通過して繰り返し搬送し、前記予め定められた光パターンが前記感光材料を露光するように作動する可動表面、を含むシステム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H05K 3/00

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭62-222256
特開昭64-005017
特開平2-001108

審査官引用 (3件)

特開昭62-222256
特開昭64-005017
特開平2-001108

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