電子線描画方法および電子線描画装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯村雅俊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-196648
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040485
出願日： 1997年07月23日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】試料上に大量の図形をより高精度に描画することを可能にした電子線描画方法および電子線描画装置を提供すること。【解決手段】第1マスク(101)の後段に設けられた偏向器(第1図形選択偏向器112)により、第2マスク(102)に設けられた複数の開口のうちの一つを選択し、それによって成形される像を偏向器(第2図形選択偏向器114)により、第3マスク(103)に設けられている複数の開口のうちの一つを選択し、これによって成形される像を収束・偏向して対象となる試料(110)に照射する。第2マスク(102)または第3マスク(103)の少なくともいずれか一方は微細素子パターンの繰り返し図形の開口を有している。また、第2マスクまたは第3マスクの一方が最大照射面積を選択または規定し、他方が電子線の形状を選択するようにしている。

請求項（抜粋）：

電子線を発生させるステップと、発生した電子線を少なくとも1つのマスク(以下、第1マスク)で成形するステップと、成形した電子線を偏向する偏向ステップと、偏向した電子線を、それぞれが複数の開口を有する少なくとも2つのマスク(以下、第2マスク,第3マスク)を用いて成形するステップと、該成形された電子線を収束させて試料の所望の位置に照射するステップとを有することを特徴とする電子線描画方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , H01J 37/09 , H01J 37/147 , H01L 21/308

FI (4件)：

H01L 21/30 541 S , H01J 37/09 A , H01J 37/147 C , H01L 21/308

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-100208
特開平4-137520
荷電粒子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-134139 出願人：株式会社ニコン

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