洗浄装置及び洗浄方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-262287
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102119
出願日： 1991年10月09日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】この発明は、洗浄装置及び洗浄方法、特に、被洗浄基板に超音波を均一に照射して被洗浄基板全体を効果的に洗浄する洗浄装置及び洗浄方法を得ることを目的とする。【構成】外槽9の側壁に設けられた超音波発振器7で発生した超音波は、外槽9と内槽2との間にある超音波伝達媒体8例えば水により、内槽2内の洗浄薬液19を介して内槽2内の被洗浄基板4例えば半導体ウエハに照射される。超音波を洗浄装置の側面から照射することにより、支持台21による超音波の影になる部分を最小にすることができ、被洗浄基板4の洗浄をより均一に、かつ効果的に行うことができる。

請求項（抜粋）：

被洗浄基板を支持する支持台と、これら被洗浄基板及び支持台を収容し洗浄薬液を充満した洗浄槽である内槽と、この内槽の周囲に配置され超音波伝達媒体を充満した外槽と、この外槽の外壁に設けられ、上記内槽内の被洗浄基板に向けて超音波を照射する超音波発振器とを備えたことを特徴とする洗浄装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-281431
特開平3-222419
特開平3-022547

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