特許
J-GLOBAL ID：200903039172173526
X線マスク構造体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 勝広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-326716
公開番号（公開出願番号）：特開平5-136030
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】 従来例の問題点を解決し、X線透過膜上とX線吸収体として主たる役割を果たす金属との間に金属薄膜を設けるが、X線吸収体を減少させることなく、且つ、X線透過膜の膜厚分布やダメージを引き起こすことなく、更にその金属薄膜の非パターン形成部におけるアライメント光透過率を妨げることのないX線マスクを提供すること。【構成】 所望のパターンを有するX線吸収体、該吸収体を支持するX線透過膜及びこれらを保持する保持枠からなるX線マスク構造体において、前記X線透過膜上のパターン部以外に金属酸化膜を有することを特徴とするX線マスク構造体。
請求項（抜粋）：
所望のパターンを有するX線吸収体、該吸収体を支持するX線透過膜及びこれらを保持する保持枠からなるX線マスク構造体において、前記X線透過膜上のパターン部以外に金属酸化膜を有することを特徴とするX線マスク構造体。
IPC (2件)：
引用特許：
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