特許

J-GLOBAL ID：200903039181556047

電解質膜の形成方法

発明者： 神前 潤一 ,  久留 長生 ,  永田 勝巳 ,  池田 浩二
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-290757
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142072
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】この発明は、電解質膜の高緻密化及び工程削減を実現できることを主要な目的とする。【構成】円筒型の電極支持管(11)内を密閉するとともに、前記電極支持管(11)の一端側より該電極支持管(11)内の空気を吸引可能にした後、前記電極支持管(11)を該電極支持管(11)の気孔径より大きい粒子の電解質スラリー(17)中に浸漬し、その後電極支持管(11)を引き上げて乾燥を数回繰り返すことにより電解質を仮焼し、更に前記浸漬工程と仮焼工程を数回繰り返した後に本焼することを特徴とする電解質膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

円筒型の電極支持管内を密閉するとともに、前記電極支持管の一端側より該電極支持管内の空気を吸引可能にした後、前記電極支持管を該電極支持管の気孔径より大きい粒子の電解質スラリー中に浸漬し、その後電極支持管を引き上げて乾燥を数回繰り返すことにより電解質を仮焼し、更に前記浸漬工程と仮焼工程を数回繰り返した後に本焼することを特徴とする電解質膜の形成方法。

IPC (2件)：

H01M 8/02 ,  H01M 8/10