特許
J-GLOBAL ID:200903039182312133
一重項酸素発生光増感剤及びそれを用いた一重項酸素発生方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2003007586
公開番号(公開出願番号):WO2003-106583
出願日: 2003年06月13日
公開日(公表日): 2003年12月24日
要約:
本発明は、シリコンナノ結晶、特に、ポーラスシリコンで形成されてなる一重項酸素発生光増感剤に関する。本発明の一重項酸素発生光増感剤を用いることによって、一重項酸素を高効率で大量に生産することが可能となる。
請求項(抜粋):
シリコンナノ結晶で形成されてなる一重項酸素発生光増感剤。
IPC (3件):
C09K3/00
, C01B13/02
, C01B33/02
FI (3件):
C09K3/00 T
, C01B13/02 Z
, C01B33/02 Z
前のページに戻る