特許

J-GLOBAL ID：200903039189833589

量子細線装置及び製法

発明者： 岡島 芳彦 ,  加藤 和男 ,  森谷 吉久
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-317055
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169938
出願日： 1993年12月16日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 半導体に利用される量子細線装置及び製法を得る。【構成】 単結晶基板と該単結晶基板上にVLS成長法により形成された針状単結晶からなる量子細線により構成される量子細線装置及びその製法。

請求項（抜粋）：

単結晶基板と該単結晶基板上にVLS成長法により形成された針状単結晶からなる量子細線により構成されたことを特徴とする量子細線装置。

IPC (2件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/208