特許

J-GLOBAL ID：200903039190593125

光磁気デイスクの製造方法

発明者： 所 誠
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-132958
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067361
出願日： 1991年06月04日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【構成】 案内溝を有する基板上に光磁気記録層を配設してなる半製品上に、少なくとも、分子内にカルボキシル基を有する光重合性化合物(A)またはこの光重合性化合物(A)と他の光重合性化合物(B)との混合物、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(C)、およびこれらの(A)、(B)、(C)に可溶な飽和ポリエステル樹脂(D)を含有する接着剤を塗布した後に、前記半製品または保護基板を貼り合わせ、光照射および加熱により接着剤を硬化させる。【効果】 従来は避けられなかった2段階硬化によるディスク基板への影響は解消され、高品質、高特性の光磁気ディスクを得る。

請求項（抜粋）：

案内溝を有する基板上に光磁気記録層を配設してなる半製品上に、少なくとも、分子内にカルボキシル基を有する光重合性化合物(A)またはこの光重合性化合物(A)と他の光重合性化合物(B)との混合物、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(C)、およびこれら(A)、(B)、(C)に可溶な飽和ポリエステル樹脂(D)、を含有する接着剤を塗布した後に、前記半製品または保護基板を貼り合わせ、光照射および加熱により接着剤を硬化させることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 11/10 ,  C09J163/00 JFK ,  C09J163/00 JFP