特許

J-GLOBAL ID：200903039191364219

基板処理装置

発明者： 上山 勉
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-169012
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022370
出願日： 1996年06月28日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 第1、第2の一連の基板処理を好適に行う基板処理装置を提供する。【解決手段】 第1のスピンチャック11や第1のカップ12、薬液供給用のノズル13、14などを備えた薬液処理(第1の基板処理)用の第1の基板処理部1の上方に、第2のスピンチャック31や第2のカップ32、リンス液供給用のノズル33、34などを備えたリンス・乾燥処理(第2の基板処理)用の第2の基板処理部2が配置されている。第1、第2の基板処理部1、2の間の作用位置と第1のカップ12の側方の退避位置との間で変位可能な雰囲気遮断部材4が設けられている。雰囲気遮断部材4は作用位置に位置して第1、第2の基板処理部1、2の雰囲気を遮断する。第1、第2のスピンチャック11、31は相対昇降して基板Wの受渡しを行う。

請求項（抜粋）：

第1の基板処理とそれに続く第2の基板処理を行うための基板処理装置であって、第1の基板処理を行うために基板を保持する第1の基板保持手段と、前記第1の基板保持手段に保持された基板を鉛直軸周りに回転させる第1の回転手段と、前記第1の基板保持手段に保持された基板の周囲に配置される第1のカップとを備えた第1の基板処理部と、第2の基板処理を行うために基板を保持する第2の基板保持手段と、前記第2の基板保持手段に保持された基板を鉛直軸周りに回転させる第2の回転手段と、前記第2の基板保持手段に保持された基板の周囲に配置される第2のカップとを備え、前記第1の基板処理部の上方または下方に配置された第2の基板処理部と、前記第1の基板処理部と前記第2の基板処理部の間の作用位置に位置して前記第1の基板処理部の雰囲気と前記第2の基板処理部の雰囲気とを遮断する雰囲気遮断部材と、前記作用位置と、前記作用位置から外れた退避位置との間で前記雰囲気遮断部材を変位させる変位手段と、を備え、前記第1の基板保持手段と前記第2の基板保持手段とが相対昇降して前記第1の基板保持手段と前記第2の基板保持手段との間で基板を受け渡すように構成したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

FI (5件)：

H01L 21/68 N ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 569 C