特許
J-GLOBAL ID：200903039250532309
メンテナンス方法、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-333829
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027674
出願日： 2005年11月18日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】液体が露光装置に及ぼす影響を低減することができるメンテナンス方法を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系を構成する複数の光学素子のうち特定の光学素子LS1、LS2間の空間KSを液体LQで満たした状態で露光光ELを照射する。露光光ELの照射の停止時には、空間KSを液体LQとは別の機能液LKで置換する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
投影光学系を介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置のメンテナンス方法において、
前記基板の露光は、前記投影光学系を構成する複数の光学素子のうち特定の光学素子間の所定空間を第1液体で満たした状態で前記露光光を照射することによって行われ、
露光光の照射が行われていない時に、前記所定空間を前記第1液体とは別の第2液体で置換するメンテナンス方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, H01L21/30 503G
, G03F7/20 521
5F046CB01
, 5F046CB12
, 5F046CC01
, 5F046DA26
, 5F046DB02
, 5F046DC10
