特許
J-GLOBAL ID:200903039251882214
積層体およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山下 昭彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-150736
公開番号(公開出願番号):特開2003-341003
出願日: 2002年05月24日
公開日(公表日): 2003年12月03日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、表面が平滑であることから種々の用途に用いることが可能であり、また無機酸化物の蒸着層と共に用いることにより、ガスバリア性を向上させることができる積層体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材の少なくとも片面に積層され、表面平均粗さが4nm以下であるエポキシ化合物からなる樹脂薄膜層とを有することを特徴とする積層体を提供する。
請求項(抜粋):
基材と、前記基材の少なくとも片面に積層され、表面平均粗さが4nm以下であるエポキシ化合物からなる樹脂薄膜層とを有することを特徴とする積層体。
Fターム (36件):
4F100AA17C
, 4F100AA20C
, 4F100AA40C
, 4F100AD05C
, 4F100AK01A
, 4F100AK53B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100CA02B
, 4F100EH66B
, 4F100EH66C
, 4F100EH661
, 4F100EH662
, 4F100EJ081
, 4F100EJ082
, 4F100EJ521
, 4F100EJ522
, 4F100GB15
, 4F100JA07B
, 4F100JB01
, 4F100JD03
, 4F100JD04
, 4F100JJ03
, 4F100JK01
, 4F100JK15B
, 4F100JK15K
, 4F100JM02B
, 4F100JM02C
, 4F100YY00
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
引用特許:
前のページに戻る