特許
J-GLOBAL ID：200903039256735333
ビームスプリッタ及びそれを応用した光学装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-308894
公開番号（公開出願番号）：特開2001-124927
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】【課題】 光透過性基板の表面又はプリズムの接合面において、複数の金属面を配列したパターンを形成しても、この反射光側の受光面を確認することができ、受光面を所望の位置に設定することができるビームスプリッタとそれを応用した光学装置を提供すること。【解決手段】 光透過性基板の表面又は2つのプリズムの接合面に、所定形状の金属面が複数個配列されたパターン、又は前記金属面に所定形状の開口部が複数個配列されたパターンが形成されたビームスプリッタにおいて、前記光透過性基板の表面、又は2つのプリズムの接合面に、前記パターンの範囲の全面を覆い、波長選択性又は偏光分離性、を有する誘電体多層膜が形成されている。この波長選択性は、特定波長域の光束を反射又は透過する性質、前記偏光分離性は、光束の特定方向の偏光成分を反射又は透過するを性質をそれぞれ有している。
請求項（抜粋）：
光透過性基板の表面又は2つのプリズムの接合面に、所定形状の金属面が複数個配列されたパターン、又は金属面に所定形状の開口部が複数個配列されたパターンが形成されたビームスプリッタにおいて、前記光透過性基板の表面又は前記2つのプリズムの接合面に、前記パターンの範囲の全面を覆い、波長選択性又は偏光分離性を有する誘電体多層膜が形成されていることを特徴とするビームスプリッタ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2H048FA01
, 2H048FA05
, 2H048FA12
, 2H048FA24
, 2H049BA05
, 2H049BA06
, 2H049BA43
, 2H049BA45
, 2H049BB42
, 2H049BB62
, 2H049BC08
