光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-325523
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158456
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】汚れが付着している既存の基材や合成樹脂からなる基材の表面に、親水性を発揮する光触媒被膜を形成する。【解決手段】ヒドロキシアルコキシセルロースと、コロイドを形成する無機酸化物とを水に分散させた表面処理剤を、基材の表面に塗布すると、基材の表面はある程度親水化せしめられる。そこで、この親水化された表面に光触媒コーティング液を塗布することで、基材表面に対する結合力に優れた光触媒層が得られる。

請求項（抜粋）：

基材の表面に光触媒被膜を形成する前に、当該表面の前処理を行うために塗布する表面処理剤であって、この表面処理剤はヒドロキシアルコキシセルロースと、コロイドを形成する無機酸化物とを水に分散させてなることを特徴とする光触媒被膜形成用表面処理剤。

IPC (7件)：

C09K 3/00 , B01J 35/02 , C01G 23/047 , C08L 1/28 , C09D 5/00 , C08J 7/04 , C08J 7/06

FI (7件)：

C09K 3/00 R , B01J 35/02 J , C01G 23/047 , C08L 1/28 , C09D 5/00 D , C08J 7/04 T , C08J 7/06 Z

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