特許
J-GLOBAL ID：200903039285602008
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-127468
公開番号（公開出願番号）：特開2003-322948
出願日： 2002年04月26日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：
【要約】【課題】 露光波長の短波長化(140nm〜200nmの露光波長領域)や露光光の透過率の高透過率化(透過率8〜30%)に対応し、高い加工精度を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。【解決手段】 透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜が、金属を10原子%以下含有する、金属、珪素、酸素、及び窒素を主構成要素とする膜、及び、前記膜と透明基板との間に形成されたエッチングストッパー膜とからなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光光を透過させる光透過部と、露光光の一部を透過させると同時に透過した光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部を有し、前記光透過部と位相シフター部の境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消し合うように光学特性を設計することで、被露光体表面に転写される露光パターン境界部のコントラストを良好に保持、改善できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜が、金属を10原子%以下含有する、金属、珪素、酸素、及び窒素を主構成要素とする膜、及び、前記膜と透明基板との間に形成されたエッチングストッパー膜とからなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 502
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 G
, G03F 7/20 502
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BA07
, 2H095BB03
, 2H095BC24
, 2H095BC27
, 2H097CA13
, 2H097GB00
, 2H097LA10
