特許

J-GLOBAL ID：200903039285707705

研磨体

発明者： 石黒 忠 ,  藤山 正昭 ,  両毛 克己
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-103931
公開番号（公開出願番号）：特開平8-294873
出願日： 1995年04月27日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 チッピングの発生を防止しつつ高い研磨力を有する研磨層を形成するとともに、良好な湿式研磨を可能とする。【構成】 主たる研磨剤21と結合剤22からなる研磨層20を支持体10上に有してなり、主たる研磨剤の平均粒子サイズが3〜15μmであり、前記研磨層表面の中心線平均表面粗さRaが0.5〜2.5μmでかつ水との接触角が20〜50度の範囲に設けてなる。

請求項（抜粋）：

主たる研磨剤と結合剤からなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体において、前記主たる研磨剤の平均粒子サイズが3〜15μmであり、前記研磨層表面の中心線平均表面粗さRaが0.5〜2.5μmでかつ水との接触角が20〜50度の範囲であることを特徴とする研磨体。

IPC (3件)：

B24D 11/00 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

B24D 11/00 A ,  G11B 5/127 Q ,  G11B 5/84 A