特許

J-GLOBAL ID：200903039288040809

ハイブリツドシリカゲルの製造方法

発明者： 松田 麗子 ,  山口 真男 ,  岡本 秀則
出願人/特許権者： 徳山曹達株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309422
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140313
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【構成】 テトラエトキシシラン、フェニルメトキシシラン等のシリコンアルコキシドと、分子内にアルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物とを共加水分解、縮合することを特徴とするフォトクロミック性を示すハイブリッドシリカゲルの製造方法。【効果】 フォトクロミック性を示す有機化合物がシリカゲルと化学的に結合しているため、フォトクロミック化合物が有機溶媒等に溶出し難いだけでなく、アルコキシシリル基を有さないフォトクロミック化合物をシリカゲル中にドープした場合にくらべて、フォトクロミック材として高い耐久性を示す。

請求項（抜粋）：

一般式(1)または(2)Si(OR1 )4 (1)(式中、R1 はアルキル基を示す。)R2 n Si(OR3 )4-n (2)(式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェニル基を示し、R3 はアルキル基を示し、nは1または2の整数を示す。)で表されるシリコンアルコキシドのいづれか一方と、アルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物とを共加水分解、縮合することを特徴とするフォトクロミックハイブリッドシリカゲルの製造方法。

IPC (5件)：

C08G 77/02 NTZ ,  C01B 33/12 ,  C03C 4/06 ,  C08G 77/04 ,  C08G 77/26 NUJ