特許

J-GLOBAL ID：200903039305426643

位相差型エポキシ系シートの製造方法及び位相差型基板シート

発明者： 須川 浩志 ,  原 和孝 ,  下平 起市 ,  宮武 稔
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-029791
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225626
出願日： 1999年02月08日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 位相差シートと重畳したエポキシ系硬化シートを効率よく形成できる製造方法を得て、薄型性に優れる液晶セルの形成に有用な位相差型基板シートの開発。【解決手段】 長尺の位相差シート(1)を順次走行させつつ、その上にエポキシ樹脂塗工液(21)をシート状に順次展開して硬化処理し(3)、前記位相差シートと密着したエポキシ樹脂硬化層(22)を連続製造する位相差型エポキシ系シート(6)の製造方法、及び光学補償用の位相差シートとエポキシ樹脂硬化層とが接着剤層の介在なく密着してなる位相差型基板シート。【効果】 光学特性や薄型性等に優れる多様な物性の位相差型エポキシ系シートを簡単な操作にて連続製造でき、量産速度や厚さも容易に制御できて薄型の液晶セルを効率よく形成できる。

請求項（抜粋）：

長尺の位相差シートを順次走行させつつ、その上にエポキシ樹脂塗工液をシート状に順次展開して硬化処理し、前記位相差シートと密着したエポキシ樹脂硬化層を連続製造することを特徴とする位相差型エポキシ系シートの製造方法。

IPC (5件)：

B29C 41/30 ,  B32B 7/02 103 ,  G02F 1/1335 610 ,  B32B 27/38 ,  B29K 63:00

FI (4件)：

B29C 41/30 ,  B32B 7/02 103 ,  G02F 1/1335 610 ,  B32B 27/38

Fターム (52件)：

2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC07 ,  2H091FC12 ,  2H091FC16 ,  2H091FC23 ,  2H091FD15 ,  2H091LA12 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01C ,  4F100AK45 ,  4F100AK53B ,  4F100AK54 ,  4F100AK55 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA26 ,  4F100EA021 ,  4F100EH112 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ303 ,  4F100EK04 ,  4F100GB41 ,  4F100JA05A ,  4F100JA05C ,  4F100JA20A ,  4F100JA20C ,  4F100JL01 ,  4F100JL02 ,  4F100JN00 ,  4F100JN30A ,  4F100JN30C ,  4F100YY00A ,  4F100YY00C ,  4F205AA39 ,  4F205AD08 ,  4F205AG01 ,  4F205AG03 ,  4F205AH42 ,  4F205AH73 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GB13 ,  4F205GB26 ,  4F205GC07 ,  4F205GF24 ,  4F205GN14 ,  4F205GW23