リソグラフィ装置および前記装置で用いるモータ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-237732
公開番号（公開出願番号）：特開2003-158865
出願日： 2002年08月19日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】バック・アイアンの質量が低減されるが、駆動装置の性能は全く低下していないローレンツ駆動装置を有するリソグラフィ投影装置を提供すること。【解決手段】装置の第1部分と第2部分との間に力を発生させるローレンツ駆動装置であって、装置の第1部分に取り付けられて第1磁界を発生させるメイン磁石システムと、前記第1部分に取り付けられてハルバック配置で配置され第2磁界を発生させる補助磁石システムと、装置の第2部分に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1および第2の磁界の組み合わせとの相互作用によって装置の前記第1および第2の部分間に力を発生させるように配置される導電性要素とを備えるローレンツ駆動装置。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置であって、放射の投影ビームを供給するための放射システムと、所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン形成するように使用されるパターン形成手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムと、モータの第1部分と装置の機械フレームとの間に少なくとも1つの方向の長距離運動に渡る力を発生させるための長行程モータと、モータの前記第1部分と第2部分との間に少なくとも1つの方向の短距離運動に渡る力を発生させ、前記第2部分は支持構造または基板テーブルに接続されるローレンツ駆動装置とを備えるモータとを備え、ローレンツ駆動装置は、モータの前記第1および第2の部分の一方に取り付けられ、前記力の方向に実質的に垂直な第1磁界を発生させるメイン磁石システムと、モータの前記一方の部分の他方に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1磁界との相互作用によって前記力を発生させるように配置される導電性要素と、モータの前記一方の部分に取り付けられて、ハルバック配置で配置され、第1磁界に実質的に垂直な第2磁界を発生させる補助磁石システムとを備えるリソグラフィ投影装置。

IPC (3件)：

H02K 41/03 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (4件)：

H02K 41/03 A , G03F 9/00 H , H01L 21/30 515 G , H01L 21/30 503 B

Fターム (14件)：

5F046BA05 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC19 , 5H641BB06 , 5H641BB18 , 5H641GG03 , 5H641GG05 , 5H641GG07 , 5H641HH02 , 5H641HH05 , 5H641HH06 , 5H641HH14 , 5H641HH17

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭62-092757
磁気回路
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-212218 出願人：日立金属株式会社

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