特許
J-GLOBAL ID：200903039321803902
純水の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
谷山 輝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257291
公開番号（公開出願番号）：特開平5-096277
出願日： 1991年10月04日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：
【要約】【目的】 純水あるいは超純水中の非イオン性のシリカ成分を可及的に少なくすることができる純水の製造方法及び装置を提供する。【構成】 水に含まれていて、そのままではモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分を、オゾンと接触反応させ、この反応工程と同時又はこの反応工程の後に紫外線を照射してイオン化させ、イオン交換樹脂塔に通す。このイオン交換樹脂搭を通った処理水は、非イオン性のシリカ成分を実質的に含まない。
請求項（抜粋）：
水中に含まれていて、そのままではモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させる工程と、このイオン化したシリカ成分を固体電解質に吸着して水中から除去する工程とを有することを特徴とする純水の製造方法。
IPC (5件)：
C02F 1/42
, C02F 1/20
, C02F 1/32
, C02F 1/78
, C02F 9/00
