ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332955
公開番号（公開出願番号）：特開2002-139839
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】定在波の発生の軽減、更に感度、解像力、パターンプロファイルの形状も優れたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び一般式(I)で示されるフッ素原子を含有する化合物を含有するポジ型感光性組成物。(式中、Rはフッ素原子を含有する炭化水素基を表す。Xは、フッ素原子を含有しない2価の連結基を表す。)

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(I)で示される構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)中、Rはフッ素原子を含有する炭化水素基を表す。Xは、フッ素原子を含有しない2価の連結基を表す。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/095 , C08K 5/16 , C08L 57/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/095 , C08K 5/16 , C08L 57/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

Fターム (47件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 4J002BG031 , 4J002BG071 , 4J002BG081 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002BQ001 , 4J002CE001 , 4J002EB116 , 4J002EB126 , 4J002EB146 , 4J002EF037 , 4J002EH038 , 4J002EH126 , 4J002EJ028 , 4J002EN019 , 4J002ER009 , 4J002ER029 , 4J002ES006 , 4J002EU139 , 4J002EU186 , 4J002EU216 , 4J002EU239 , 4J002EV047 , 4J002EV226 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002EV326 , 4J002FD206 , 4J002FD310 , 4J002GP03

前のページに戻る