化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマー

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：竹本松司 , 杉山秀雄 , 湯田浩一 , 魚住高博 , 手島直彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-134664
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002416
出願日： 2003年05月13日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマーの提供。【解決手段】化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマーは、化学構造式49に示される(I)の構造を具えた化合物であり、R1 はH或いはC1 -C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数である。この化合物は良好な親水性、付着性及び抗ドライエッチング性を具えたポリマーの合成に適合し、特に他のモノマーと組み合わせて共重合によりポリマーを合成するのに適合する。【化49】

請求項（抜粋）：

以下の化学構造式1において(I)で示される化合物であり、

IPC (5件)：

C07D307/93 , C07D307/88 , C07D493/08 , C08F20/10 , G03F7/039

FI (5件)：

C07D307/93 , C07D307/88 , C07D493/08 A , C08F20/10 , G03F7/039 601

Fターム (39件)：

2H025AA00 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4C037RA01 , 4C037XA10 , 4C071AA03 , 4C071BB02 , 4C071CC12 , 4C071DD08 , 4C071EE05 , 4C071FF15 , 4C071HH05 , 4C071HH08 , 4C071KK11 , 4C071LL03 , 4C071LL05 , 4J100AL08P , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA11P , 4J100BA51P , 4J100BC04P , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-156962 出願人：株式会社東芝
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-051811 出願人：東京応化工業株式会社
ラクトン構造を有する多環式化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-109446 出願人：三菱化学株式会社

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