厚膜印刷によるパターンの形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-185167
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037426
出願日： 1992年07月13日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】本発明は、ガス放電型表示パネル(PDP)などの厚膜印刷によるパターンの形成方法に関するもので、主にライン幅100μm以下の高精細なパターンの形成を厚膜印刷にて、ダレによるパターン太り・断線・パターン細り等がなく、均一な厚さに形成できるPDPを構成する各パターンの厚膜印刷方法を提供することを目的とするものである。【構成】本発明は、ガラス基板11上に、130°C〜170°Cの乾燥で蒸発する沸点を有する溶剤と、焼成中に350°C〜500°Cで分解焼失する有機バインダとを配合したもので下敷層13を形成するようにしたものである。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に、130°Cないし170°Cで蒸発する沸点をもつ溶剤と350°Cないし500°Cで分解・焼失する有機バインダーとを配合したものを用いて下敷層を形成する工程と、該下敷層の上に所定のパターンを印刷する工程と、前記工程完了後に焼成により前記下敷層を焼失させ、パターン材料をガラス基板上に形成する工程を有することを特徴とする厚膜印刷によるパターンの形成方法。

IPC (3件)：

H05K 3/12 , H01J 9/14 , H01J 17/49

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭61-051988
特開昭61-256788
特開昭57-015488

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