特許
J-GLOBAL ID：200903039349022272
導電膜の陽極酸化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-323834
公開番号（公開出願番号）：特開平6-146076
出願日： 1992年11月10日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【目的】基板上に導電膜の非酸化部分を覆って形成されているレジストマスクが陽極酸化中に剥離してしまうのを防いで、導電膜の非酸化部が酸化されてしまうを確実に防止する。【構成】基板を電解液槽21に搬入する基板搬送経路に基板加熱ヒータ11,12を設けておき、陽極酸化を行なう直前に基板1を加熱してその上のレジストマスクを焼成し、このレジストマスクを導電膜に密着させる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した導電膜を電解液中において陽極酸化する装置であって、導電膜を形成するとともにこの導電膜の非酸化部分をレジストマスクで覆った基板を前記電解液槽に搬入する基板搬送経路に、前記基板を前記レジストマスクの焼成温度に加熱するヒータを設けたことを特徴とする導電膜の陽極酸化装置。
IPC (3件)：
C25D 11/00 308
, C25D 11/32
, C25D 17/00
