基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：下出隆史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-148710
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321574
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】洗浄具が基板に与える押圧を簡単な機構によりほぼ一定に保つ。【解決手段】ムービングコイル21の可動部21bに、回転軸23が取り付けられ、その下端には延長軸33を介して洗浄ブラシ18が設けられている。回転軸23は、その中心軸である第2の軸心P2周りに回転可能であり、かつ可動部21bと一体的に鉛直方向に移動する。可動部21bの側方には、可動部21bの鉛直方向位置を検出するためののリニアエンコーダ27が設けられている。位置/押圧制御回路29は、リニアエンコーダ27から出力された可動部21bの位置信号が位置レジスタ53で設定された設定位置に一致するように、可動部21bに供給する電力を制御する。位置/押圧制御回路29は、さらに、洗浄ブラシ18が基板Wを押圧する圧力を、押圧レジスタ55で設定された圧力に保つように、可動部21bに供給する電流をほぼ一定に制御する。

請求項（抜粋）：

基板洗浄装置であって、鉛直方向に軸心周りで回転保持された基板の表面を洗浄する洗浄具と、前記洗浄具を昇降可能に支持するとともに、基板洗浄時に前記洗浄具を前記基板に対して押圧する押圧手段と、を備え、前記押圧手段は、前記洗浄具を押圧可能に支持するムービングコイルと、基板洗浄時には、前記洗浄具が所定の圧力で前記基板を押圧するように前記ムービングコイルに供給する電力を一定とする制御手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 1/04

FI (3件)：

H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 S , B08B 1/04

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