房状疎水基を有する高分子および押出成形助剤

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106407
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297132
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】セメント系材料用押出成形助剤として有用な新規な高分子を得る。【解決手段】ポリアルキレングリコール(A)にジイソシアナート(B)と房状疎水基を有するジオール(D)を反応させて得られる房状疎水基を有する高分子。

請求項（抜粋）：

化学式1(化1)【化1】で表される繰り返し単位(1)と、化学式2(化2)【化2】で表される繰り返し単位(2)からなる高分子であり、繰り返し単位(1)のモル比率が0.5以上0.999以下であり、繰り返し単位(2)のモル比率が0.001以上0.5以下であり、AはHO-A-OHが両末端に水酸基を有しかつ数平均分子量が400〜100,000の水溶性ポリアルキレングリコール(化合物A)である2価基であり、BはOCN-B-NCOが鎖状脂肪族ジイソシアナート類、環状脂肪族ジイソシアナート類および芳香族ジイソシアナートよりなる群から選ばれた全炭素数が3〜18のジイソシアナート化合物(化合物B)である2価基であり、DはHO-D-OHが化学式3(化3)【化3】で表される房状疎水性ジオール(化合物D)である2価基であり、aおよびa’は(a+a’)=0〜100の関係を満たす0以上の実数であり、bおよびb’は(b+b’)=1.5〜6.0の関係を満たす0以上の実数であり、Vは化学式4(化4)【化4】で表される連結基であり、Rは炭素数が1〜15のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基、アラルキレン基及びアルキル置換フェニレン基よりなる群から選ばれた置換基であり、X及びX’は化学式5(化5)【化5】で表される疎水基であり、Rは炭素数が3〜21のアルキル基、フェニル基、アラルキル基及びアルキル置換フェニル基よりなる群から選ばれた置換基であり、Yは化学式6(化6)【化6】で表される疎水基であり、Rは炭素数が3〜21のアルキル基、フェニル基、アラルキル基及びアルキル置換フェニル基よりなる群から選ばれた置換基であり、mは1〜20の整数であり、繰り返し単位(1)と繰り返し単位(2)からなる化合物の重量平均分子量が1万から1、000万の範囲にある房状疎水基を有する高分子。

IPC (6件)：

C08G 18/48 , C04B 24/28 , C08K 3/24 , C08K 7/02 , C08L 75/08 , C04B103:44

FI (5件)：

C08G 18/48 Z , C04B 24/28 Z , C08K 3/24 , C08K 7/02 , C08L 75/08

Fターム (39件)：

4J002BB122 , 4J002BE06X , 4J002CK051 , 4J002CL06X , 4J002DA018 , 4J002DG056 , 4J002DJ007 , 4J002DJ017 , 4J002DJ028 , 4J002DL008 , 4J002DM006 , 4J002DM007 , 4J002FA042 , 4J002FA048 , 4J002FA107 , 4J002GL00 , 4J034DG02 , 4J034DG03 , 4J034DG04 , 4J034DG05 , 4J034DG14 , 4J034DK02 , 4J034HA01 , 4J034HA07 , 4J034HC03 , 4J034HC12 , 4J034HC13 , 4J034HC17 , 4J034HC22 , 4J034HC46 , 4J034HC52 , 4J034HC64 , 4J034HC66 , 4J034HC67 , 4J034HC71 , 4J034HC73 , 4J034KB02 , 4J034KC17 , 4J034RA10

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