特許

J-GLOBAL ID：200903039367397127

積層型ブラックマトリックスおよびブラックマトリックスの形成方法

発明者： 渡辺 政春
出願人/特許権者： 東洋合成工業株式会社
代理人 (1件)： 栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-078070
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277624
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】蛍光体の接着性向上や発光の横漏れ防止によりディスプレイの画質を向上させ、さらには蛍光面の形成に有害な重クロム酸化合物を使用せずに生産性の優れたスクリーン印刷法やインクジェット法が適用できるブラックマトリックスの形成方法を提供する。【解決手段】 透明基板1上にブラックマトリックスを形成する方法において、(1)透明基板1に光遮蔽層パターン2を形成する工程と、(2)ネガ型レジストを塗布してレジスト塗膜3を形成する工程と、(3)前記光遮蔽層パターン2を露光マスクとして使用して前記レジスト塗膜を背面露光する工程と、(4)現像してレジストパターン4を形成する工程と、(5)積層パターン形成材料塗布層5を形成する工程と、(6)前記レジストパターン4とその上に付着した積層パターン形成材料塗布層をリフトオフする工程とを含む。

請求項（抜粋）：

単一材料又は2種類以上の異なる材料からなる複数の層からなる積層型ブラックマトリックスであって、透明基板上に形成された光遮蔽層パターンと、この光遮蔽層パターンを露光マスクとして使用して背面露光により形成されたレジスト塗膜をリフトオフすることにより当該光遮蔽層パターン上に形成された少なくとも一層の積層パターンとを具備することを特徴とする積層型ブラックマトリックス。

IPC (5件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/26 513 ,  G03F 7/40

FI (5件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/26 513 ,  G03F 7/40

Fターム (38件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA28 ,  2H025FA44 ,  2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BA55 ,  2H048BA64 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  2H091FA35Y ,  2H091FB06 ,  2H091FC01 ,  2H091FC13 ,  2H091FC26 ,  2H091FD04 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  2H091LA17 ,  2H096AA00 ,  2H096AA27 ,  2H096CA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA28 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04