特許
J-GLOBAL ID:200903039369421408

光デイスク及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶原 康稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-309738
公開番号(公開出願番号):特開平5-120734
出願日: 1991年10月29日
公開日(公表日): 1993年05月18日
要約:
【要約】【目的】 変調度,トラッキングエラー信号のいずれについても高レベルで検出出力を得ることができ、高密度記録にも好適な光ディスク及びその製造方法を提供する。【構成】 ピット10の側面16には、深さ方向に段差12が形成されている。深さDaは、入射レーザ光の変調度が最大となる値であり、深さDbはトラッキングエラー信号が最大となる値となっている。このようなピット形状は、感度の異なる2つのレジスト層に、拡りを有する光でカッティングを行うことで形成でき、ドライエッチングの手法によってガラス基板上に形成することもできる。このガラス基板は、ガラスマスタ,ガラススタンパ,ガラスディスクのいずれかに使用される。
請求項(抜粋):
ピット列によって情報が記録される光ディスクにおいて、前記ピット側面の深さ方向に、深さと検出信号との関係を考慮して段差を設けたことを特徴とする光ディスク。
IPC (3件):
G11B 7/24 561 ,  G11B 7/26 521 ,  G11B 7/26 531
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-257921
  • 特開昭60-066345
  • 特開昭63-025850
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