ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-029397
公開番号（公開出願番号）：特開2008-233877
出願日： 2008年02月08日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、良好な解像性を示し、微細なラインパターンの倒れが低減されたネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)エピスルフィド構造(2個のC原子と1個のS原子とから成る3員環構造)を少なくとも1個有する化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂及び(C)活性光線又は放射線の放射により酸を発生する化合物を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表されるエピスルフィド構造(2個のC原子と1個のS原子とから成る3員環構造)を少なくとも1個有する化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂及び(C)活性光線又は放射線の放射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , C08L 101/12 , C08K 5/378 , C08K 5/00

FI (6件)：

G03F7/038 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , C08L101/12 , C08K5/378 , C08K5/00

Fターム (35件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE07 , 2H025CB11 , 2H025CB14 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002AA001 , 4J002BG071 , 4J002BG081 , 4J002EB007 , 4J002EQ017 , 4J002ET018 , 4J002EU008 , 4J002EU098 , 4J002EV237 , 4J002EV247 , 4J002EV297 , 4J002EV306 , 4J002EW177 , 4J002FD148 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J002HA03

引用特許：

出願人引用 (6件)

ネガ型フォトレジスト材料、およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-162716 出願人：日本電気株式会社
レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法並びにレジスト剤用架橋剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-195038 出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電子工業株式会社
ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-039331 出願人：株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る