特許

J-GLOBAL ID：200903039379028607

全反射蛍光X線分析装置および分析方法

発明者： 河野 久征
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-155863
公開番号（公開出願番号）：特開平5-322809
出願日： 1992年05月21日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】 全反射蛍光X線分析において、分析精度をより一層向上させる。【構成】 X線源3から試料50までの光路に、主要な構成元素が互いに異なる少なくとも2種類のフィルタ41,42を順次挿入するフィルタ装置4を設ける。第1フィルタ41を通過させた一次X線B1を試料50に照射して、上記試料50から発生したX線のスペクトルを測定し、つづいて、第2フィルタ42を通過させた一次X線B1を試料50に照射して、上記試料50から発生したX線のスペクトルを測定する。上記2つの測定結果に基づいて測定対象の元素についての蛍光X線B3以外のスペクトルを除去して、測定対象の元素についての蛍光X線B3の強度を補正する。

請求項（抜粋）：

試料表面に一次X線を微小な入射角度で照射するX線源と、上記試料表面に対向し上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、このX線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析装置において、上記X線源から試料までの光路に、含有元素が互いに異なり、かつ、原子番号が近接している少なくとも2種類のフィルタを順次挿入するフィルタ装置を設けたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。