特許
J-GLOBAL ID：200903039388396961
純水製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳原 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-186286
公開番号（公開出願番号）：特開平7-039871
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：
【要約】【目的】 フッ化カルシウムのような不溶性塩の生成を防止して、スケール化による膜分離装置などの目詰まりを防止し、かつ混合原水のpHを高くして、中和を不要にするか、あるいは中和剤の量を少なくすることができ、また後段の脱イオン負荷を低くして効率よく純水を製造できる純水製造装置を得る。【構成】 工業用水処理系1において工業用水5をカチオン交換装置8で脱カチオンしたのち脱炭酸装置9で脱炭酸し、半導体製造排水処理系2において半導体製造排水21をアニオン交換装置24で脱アニオンし、これらの処理水を混合装置3で混合し、混合原水を混合原水処理系4において生物濾過装置32、UF膜分離装置33等で前処理したのち、RO膜分離装置34、混床式イオン交換装置35等の脱イオン装置で脱イオンして純水を製造する装置。
請求項（抜粋）：
工業用水を脱カチオンするカチオン交換装置を有する工業用水処理系と、半導体製造排水を脱アニオンするアニオン交換装置を有する半導体製造排水処理系と、前記工業用水処理系および半導体製造排水処理系の処理水を混合して混合原水とする混合装置と、前記混合原水を脱イオンする脱イオン装置を有する混合原水処理系とを含むことを特徴とする純水製造装置。
IPC (3件)：
C02F 1/42
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00 503
