特許

J-GLOBAL ID：200903039389422028

シャドウマスク用ハ-ドマスク

発明者： 田島 義浩 ,  二階堂 勝
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010202
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208043
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】 十分な膜強度を有するとともに、露光時の真空密着不良を解消することができ、結果として、シャドウマスクの生産歩留まり及び生産性を良好にし得るシヤドウマスク用ハードマスクを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明におけるシャドウマスク用ハードマスクは、紫外線透過性の青板ガラス11上のシャドウマスク開孔部に相当する部分が突出したパターンとなり、この突出パターンは遮光性のNi-P層となっており、その上層には粒3〜5μmのシリコーン粒子14a を含有するゼラチン層14b が設けられた構造となっている。微粒子含有ゼラチン層を形成する際、乾燥後の膜厚が微粒子の粒径よりも小さくなるようにしているので、ゼラチン層13a の外表面からシリコーン微粒子が突出した状態となる。

請求項（抜粋）：

紫外線透過性支持基板と、該支持基板上に形成された遮光性金属層からなるマスクパターンとを具備し、少なくともマスクパターン部の最外面が微小凹凸層となっていることを特徴とするシャドウマスク用ハードマスク。

IPC (2件)：

H01J 9/14 ,  G03F 1/00

FI (2件)：

H01J 9/14 H ,  G03F 1/00 B

Fターム (4件)：

2H095AA02 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  5C027HH05