特許
J-GLOBAL ID：200903039389821232
定置された基板をパルスマグネトロンスパッタにより被覆する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-504575
公開番号（公開出願番号）：特表2006-524291
出願日： 2004年03月08日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：
本発明は、パルスマグネトロンスパッタのための装置であって、真空形成装置を備えるレシピエントと、2つのマグネトロンスパッタ源と、少なくとも1つの基板ホルダと、電流供給装置とを有し、・前記レシピエントは五角形の横断面を有し、該五角形の横断面は少なくとも1つの直角を含み、・相互に直角の2つの側壁には、それぞれ1つのマグネトロンスパッタ源が取り付けられており、・3つの残りの側壁にはそれぞれ1つの開口部と所属のフランジが設けられており、・マグネトロンスパッタ源に対向する側壁の少なくとも1つの開口部は真空フランジにより密閉されており、・該開口部は基板ホルダを、対向するマグネトロンスパッタ源の中心に対して直接対向するように、またはマグネトロンスパッタ源の中心に対して平行にずらして任意に位置決めするための手段を有し、・基板ホルダには、基板の中心をマグネトロンスパッタ源のターゲット面に対して可変の間隔で任意に位置決めするための手段が設けられており、・マグネトロンスパッタ源に対する電流供給装置には、ユニポーラ電力パルスまたはバイポーラ電力パルスを給電するための手段が設けられており、・前記ユニポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各マグネトロンスパッタ源において別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、・前記バイポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各極性に対して別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、・マグネトロンスパッタ源のターゲットは電流供給装置の各極と、該ターゲットが交互にマグネトロン放電のカソードおよびアノードとして作用するように接続されている、ことを特徴とするパルスマグネトロンスパッタ装置に関する。
請求項（抜粋）：
パルスマグネトロンスパッタのための装置であって、真空形成装置を備えるレシピエントと、2つのマグネトロンスパッタ源と、少なくとも1つの基板ホルダと、電流供給装置とを有し、
・前記レシピエントは五角形の横断面を有し、該五角形の横断面は少なくとも1つの直角を含み、
・相互に直角の2つの側壁には、それぞれ1つのマグネトロンスパッタ源が取り付けられており、
・3つの残りの側壁にはそれぞれ1つの開口部と所属のフランジが設けられており、
・マグネトロンスパッタ源に対向する側壁の少なくとも1つの開口部は真空フランジにより密閉されており、
・該開口部は基板ホルダを、対向するマグネトロンスパッタ源の中心に対して直接対向するように、またはマグネトロンスパッタ源の中心に対して平行にずらして任意に位置決めするための手段を有し、
・基板ホルダには、基板の中心をマグネトロンスパッタ源のターゲット面に対して可変の間隔で任意に位置決めするための手段が設けられており、
・マグネトロンスパッタ源に対する電流供給装置には、ユニポーラ電力パルスまたはバイポーラ電力パルスを給電するための手段が設けられており、
・前記ユニポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各マグネトロンスパッタ源において別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、
・前記バイポーラ電力パルスは1から100kHzの領域の周波数を有し、かつ各極性に対して別個に調整可能な電力と、別個に調整可能なデューティ比を有し、
・マグネトロンスパッタ源のターゲットは電流供給装置の各極と、該ターゲットが交互にマグネトロン放電のカソードおよびアノードとして作用するように接続されている、
ことを特徴とするパルスマグネトロンスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, H01L 21/285
, H05H 1/24
C23C14/34 T
, H01L21/285 S
, H05H1/24
4K029CA05
, 4K029DC16
, 4K029DC35
, 4K029DC39
, 4K029JA00
, 4K029JA02
, 4M104DD39
