特許

J-GLOBAL ID：200903039389998884

高分子化合物及び化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 渡辺 修 ,  竹田 好文 ,  土谷 純司 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-111188
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286375
出願日： 1995年04月12日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 ベース樹脂としてレジスト組成物に配合した場合、従来品を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有するレジスト材料を与える高分子化合物及びこの高分子化合物をベース樹脂として使用した化学増幅型ポジ型レジスト組成物を得る。【構成】 下記一般式(1)又は(2)で示され、重量平均分子量が3,000〜300,000である高分子化合物、及びこれら高分子化合物をベース樹脂として使用した化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【化1】〔但し、式中R<SP>1</SP>、R<SP>2</SP>、R<SP>4</SP>、R<SP>6</SP>はそれぞれ水素原子又はメチル基、R<SP>3</SP>、R<SP>5</SP>はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基又は-OX基(Xは水素原子又は酸不安定基)である。また、R<SP>7</SP>は水素原子、R<SP>8</SP>は-COOY(Yは水素原子又は酸不安定基)であるが、R<SP>7</SP>とR<SP>8</SP>は互いに結合して-CO-O-CO-となってもよい。nは上記平均分子量とする数であり、pは正数、q、r、sは0又は正数で、0<p/(p+q+r+s)≦1を満足する数である。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜300,000であることを特徴とする高分子化合物。【化1】(但し、式中R1は水素原子又はメチル基であり、nは上記平均分子量とする数である。)

IPC (2件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503

FI (2件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503