特許

J-GLOBAL ID：200903039392504043

低分子デキストラン

発明者： 柴田 孝 ,  竹縄 誠之 ,  寺地 務
出願人/特許権者： 藤沢薬品工業株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-309450
公開番号（公開出願番号）：特開平6-133791
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：

【要約】【構成】 高濃度のショ糖溶液にデキストラン合成酵素をpH4〜8、10〜40°Cで作用させる第一工程と、第一工程により得られる反応液に新たに高濃度のショ糖溶液とデキストラン合成酵素を含む溶液を添加反応させる第二工程を1回以上含むことを特徴とする低分子デキストランの製造法。【効果】 本発明ではデキストラン合成酵素を単独で高濃度のショ糖溶液に作用させて高分子量のデキストランの生成量を低く抑え、直接的に目的とする分子量のデキストランを製造する方法を提供するものであり、反応液の温度やpHさらには、酵素活性の管理を容易にし、従来法に比べ簡単かつ能率的に、さらに、平均分子量2000から100000程度の範囲の低分子デキストランを分子量分布の幅を小さく、且つ高収率で得ることができる。また 重量平均分子量4,000〜20,000のデキストランを含有する甘味剤は抗う蝕性が大で、しかも低粘度であって、食品に使用する場合には使いやすい。

請求項（抜粋）：

高濃度のショ糖溶液にデキストラン合成酵素をpH4〜8、10〜40°Cで作用させる第一工程と、第一工程により得られる反応液に新たに高濃度のショ糖溶液とデキストラン合成酵素を含む溶液を添加反応させる第二工程を1回以上含むことを特徴とする低分子デキストランの製造法。

IPC (4件)：

C12P 19/14 ,  A23L 1/236 ,  C12N 9/46 ,  C12R 1:01