特許

J-GLOBAL ID：200903039406681067

電子放出素子、電子源、及び画像形成装置の製造方法

発明者： 森 省誠 ,  小嶋 誠 ,  鏡 一宏 ,  古瀬 剛史 ,  寺田 匡宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-220893
公開番号（公開出願番号）：特開2003-036781
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】 特殊かつ高価な製造装置を必要とする真空蒸着技術を用いることなく、且つ、製造工程を大幅に簡略化を実現し得る電子放出素子の製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上に形成された電極部2の一部に、間隙を含む電子放出部5を有する電子放出素子の製造方法であって、電極部形成用組成物を基板1の表面に塗布する塗布工程、この塗膜を所定のパターンに露光する露光工程、現像工程、及び焼成工程を用いて、低密度化もしくは薄膜化された電子放出部形成領域4を一部に有する電極部2を形成し、電極部2への通電によって電子放出部形成領域4に間隙を形成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された電極部の一部に、間隙を含む電子放出部を有する電子放出素子の製造方法であって、電極部形成用組成物を基板の表面に塗布する塗布工程、該塗膜を所定のパターンに露光する露光工程、現像工程、及び焼成工程を用いて、低密度化もしくは薄膜化された電子放出部形成領域を一部に有する電極部を形成し、該電極部への通電によって該電子放出部形成領域に間隙を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法。