薄い基板上にパターンを形成する装置およびその方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：牧哲郎 , 牧レイ子 , 菊谷公男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357217
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158847
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】露光装置、処理装置、露光方法、薄膜トランジスタの製造方法および表示装置の製造方法などの用途において、基板(処理対象)の処理領域(基板表面すなわち露光面)に、ぼけのない露光パターンを確実に形成する。【解決手段】この発明の基板処理装置は、基板を保持する保持盤1、うねりもしくは厚みムラ検知装置2、うねりもしくは厚みムラ検出装置を動作させる制御装置3を含み、検知した基板のうねりもしくは厚みムラに基づいて保持盤1を局所的に変位させて、処理されるフィールドの範囲で基板を変形させる。これにより、基板に形成される像がぼけることが防止できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被露光用基板表面のうねりもしくは厚みムラを検知する検出手段と、前記うねりもしくは厚みムラ検出手段により検出されたうねりもしくは厚みムラの方向に対して直交する方向に長い支持機構を含み前記被露光用基板を支持するものであって、前記支持機構は前記うねりもしくは厚みムラの方向に複数個配置されるとともに各々独立に、前記被露光用基板の面と直交する変位方向に変位可能に形成されている保持手段と、前記保持手段の前記支持機構は前記支持機構の長さ方向に沿って複数設けられ、前記被露光用基板を吸着して保持する吸着手段と、を有することを特徴とする被露光用基板に露光パターンを露光する露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 503C , G03F7/20 521 , H01L21/30 516Z

Fターム (12件)：

5F046AA20 , 5F046AA21 , 5F046CC01 , 5F046CC08 , 5F046CC10 , 5F046CC11 , 5F046CD01 , 5F046CD04 , 5F046DA05 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DC10

引用特許：

出願人引用 (2件)

薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-201904 出願人：セイコーエプソン株式会社
特開昭63-260129号

審査官引用 (6件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-236766 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-105841
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-225567 出願人：株式会社リコー

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