走査型電子顕微鏡及びパターン測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：溝井章司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-035063
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231895
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 SEM装置で微細パターン寸法測定を行う際に問題となっていたコンタミネーションの付着及びチャージアップという問題を解決する。【解決手段】 SEM装置に電子ビームを部分的に遮断する部分遮断アパーチャー8を設け、測定前に前記部分遮断アパーチャー8を用いて電子ビームを測定したいパターンの周辺に対して照射した後に部分遮断アパーチャー8を除去し電子ビームをスキャンして寸法測定を行う。電子ビームを測定したいパターンの周辺に対して照射することによりパターン周辺にコンタミネーションを付着させてしまうとともに、パターン周辺の電荷を安定させることにより、チャージアップという問題を低減する。

請求項（抜粋）：

電子ビームを試料に照射してパターン測定を行なう走査型電子顕微鏡において、試料に照射される電子ビームを部分的に遮断する部分遮断アパーチャーを備えたことを特徴とする走査型電子顕微鏡。

IPC (5件)：

H01J 37/09 , G01B 15/00 , G01N 23/225 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (5件)：

H01J 37/09 A , G01B 15/00 B , G01N 23/225 , H01J 37/28 B , H01L 21/66 J

Fターム (37件)：

2F067AA21 , 2F067AA54 , 2F067CC17 , 2F067EE03 , 2F067FF03 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL00 , 2F067LL18 , 2F067QQ14 , 2F067SS02 , 2F067UU03 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001JA03 , 2G001JA04 , 2G001JA11 , 2G001KA20 , 2G001LA11 , 2G001SA01 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106AB16 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106DB20 , 4M106DB30 , 4M106DH24 , 4M106DH33 , 5C033BB02 , 5C033UU05 , 5C033UU06 , 5C033UU08

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平4-206244
特開昭54-027371
特開昭59-153154

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