特許
J-GLOBAL ID：200903039417010083
金属管の親水処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-145681
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339747
出願日： 1992年06月05日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】【目的】 表面親水性が優れていると共に、表面親水性の経時的劣化が極めて少ない金属管を得ることができる金属管の親水処理装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明に係る金属管の親水処理装置は、複数個の単位電極を連結して構成された第1及び第2の電極体3a,3bと、第1の電極体3aの各単位電極間からガスを吸引し外部に排出する吸引ブロワとを備えている。また、交流電源6、発振器5及びトランス4により構成された電源部から、第1及び第2の電極体3a,3bと処理すべき金属管1との間に高周波の高電圧を印加し、プラズマ放電又はコロナ放電を発生させる。これにより、金属管表面が清浄化されると共に、管表面に安定でポーラスな状態の酸化皮膜が形成される。
請求項（抜粋）：
金属管の表面に連続的に親水処理を施す金属管の親水処理装置において、その内側に処理すべき金属管が配設される複数個の筒状の単位電極により構成された第1の電極体と、前記単位電極間のガスを排出する排気手段と、前記金属管を前記第1の電極体に対して相対的に移動させる搬送手段と、前記金属管の移動方向における前記第1の電極体の下流側に配設されその内側に前記金属管が通る筒状の第2の電極体と、前記第1及び第2の電極体と前記金属管との間に電圧を印加し放電を発生させる放電発生手段とを有することを特徴とする金属管の親水処理装置。
IPC (3件)：
C23C 26/00
, F28F 1/32
, F28F 19/00
