特許

J-GLOBAL ID：200903039437425603

投影露光方法

発明者： 馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-082759
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275058
出願日： 1996年04月04日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ上のショット領域にレチクルパターンを高精度にアライメントして投影露光する。【解決手段】 ショットパターンとアライメントマークとが空間的に分離して描画された1枚のレチクルを用いて、ウエハ12の周縁領域61にアライメントマークM1〜M8のみを投影露光し、ウエハ12のショット領域S1,S2,S3,....に第1層のショットパターンのみを投影露光する。第2層の露光にあたっては、感光剤が塗布されたウエハ12の周縁領域61の感光剤を除去してアライメントマークM1〜M8を露出させ、そのアライメントマークを用いてアライメントを行って、第2層のショットパターンを露光する。

請求項（抜粋）：

第1のショットパターンとアライメントマークとが空間的に分離して描画された第1のレチクルを用いて、感光剤が塗布された基板の周縁領域に前記アライメントマークのみを投影露光し、かつ前記基板のショット領域に前記第1のショットパターンのみを投影露光する第1層の露光工程と、感光剤が塗布された前記基板の周縁領域の感光剤を除去した後、第2のショットパターンが描画された第2のレチクルを前記アライメントマークを用いてアライメントして前記基板の前記ショット領域に前記第2のショットパターンを投影露光する第2層の露光工程とを有することを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 520 B ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 523 ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 577